Madagaskar Centella Ampulskum

Livraison gratuite sur toutes les commandes.

Madagaskar Centella Ampulskum 1188834

Sale price DKK kr41.53 Regular price DKK kr118.70

Maat 125 ml

Quantity

Order summary

Madagaskar Centella Ampulskum

41.53

Have a discount code?

Coupon code applied will be stored on your account

Subtotal

Shipping calculated at checkout.

SKIN1004 Madagascar Centella Ampul Foam

En rig renseskum med en ideel pH-værdi på 5, som effektivt fjerner makeup og urenheder uden at irritere huden.

Denne lysebrune ampulrenseskum har en optimal pH-værdi på 5 og er derfor meget skånsom, da den ikke irriterer hudbarrieren. Det fine skum, der dannes ved friktion med vand, indeholder natriumpulver, som effektivt renser fine støvpartikler. Efter brug føles huden blød, ikke stram eller tør. Derudover indeholder SKIN1004 Madagascar Centella Amulet Foam 33% Centella Asiatica-ekstrakt og beskytter intensivt hudbarrieren under rensning. Ligesom alle produkter i SKIN1004 Centella-serien indeholder denne ampul Centella Asiatica, som vokser på øen Madagaskar, da den finder ideelle vækstbetingelser der for optimalt at udvikle sine nærende og beskyttende egenskaber. Anbefales til: alle hudtyper. Vigtigste ingredienser: Centella Asiatica-ekstrakt: Beroliger og genopfylder hudens fugtighedsniveau. Påfør en passende mængde rensecreme på våde håndflader og arbejd det op til skum ved at gnide hænderne sammen. Massér blidt ind i ansigtet og skyl derefter med lunkent vand.

Aqua (Vand), Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Centella Asiatica Extract, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract, Theobroma Cacao (Kakao) Extract, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexandiol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Dinatrium EDTA, Sodium Acetate, Butylenglycol

Your Cart

Out of stock

Your Cart

SKIN1004 Madagascar Centella Ampul Foam

En rig renseskum med en ideel pH-værdi på 5, som effektivt fjerner makeup og urenheder uden at irritere huden.